濺射儀主要性能指標(biāo)：
1、 基片最大尺寸：直徑4英寸，并可進(jìn)行貼片進(jìn)行非規(guī)則基片鍍膜；
2、 沉積室極限真空：6.7×10-6Pa；
3、 基片旋轉(zhuǎn)速度：3~100r/min；
4、 基片加熱溫度：最大500℃；
5、 薄膜均勻度：5%；
6、 可實(shí)現(xiàn)2靶、3靶、4靶共濺,并可通入氧氣或氮?dú)膺M(jìn)行氧化物或氮化物的反應(yīng)濺射成膜；
7、 四個(gè)獨(dú)立射頻電源，店員最大功率：200W；
8、可進(jìn)行濺射的材料：Pt、Ag、Sn、Bi、Si、Al、W、Ti、Zn、Cr等非磁性材料，并可根據(jù)客戶需求進(jìn)行其他材料的成膜制備（金屬和陶瓷等）；
設(shè)備管理員：盧靖
